合理的应用比仪表本身更重要，我们为您的过程要求提供 佳的界面测量方案。
对于连续和动态的过程，精确的界面测量是非常重要的。液位是稳定的还是变化的？变化范围是多少？除了界面测量以
外是否需要测量总的液位？测量过程中是否有乳状液体生成？
这些问题的答案直接关系到仪表的正确选择。我们为您提供各种可能的测量方案及其物理限制和调试方法。导波雷达、
多参数测量、电容或放射线仪表-我们指导您选择量身定做的过程测量方案。导波雷达
当高频脉冲接触到介质表
面时，只有 部分脉冲信
号被反射回去。尤其在介
电常数低的情况下，其他
脉冲信号穿过介质。在高
介电常数的 二种介质表
面，脉冲信号被 二次反
射回来，根据信号穿过上
层介质的行程时间，确定
界面高度。
多参数测量
FMP55多参数传感器可用
于界面测量，其结合了电
容测量原理和导波雷达测
量原理的优点，导波雷达
测量界面时乳化层会引起
信号损失，只有Levelflex
FMP55多参数传感器能确
保同时进行界面和物位的
安全测量。
电容
液位测量中，低介电常数
介质引起电容值的微小变
化，反之，高介电常数介
质会导致电容值的巨大变
化，在很多界面测量场
合，低介电常数介质在上
层，如油层在水上面，上
层介质对电容值的影响
小，水位分界面被当作液
位。
放射线
放射源发射出伽马射线，
射线穿过罐壁和介质时被
削弱。安装在罐或管道另
侧的接收器将发射信号
转换成电流信号。测量结
果由被测介质对放射线的
吸收率决定，对于界面测
量，放射线穿过不同密度
介质时被削弱程度不同，
如果变送器对低密度介质
进行湿标，然后再对高密
度介质进行湿标，界面测
量
测量任务 测量原理 特点/优点 应用限制/条件
• 清晰界面
液体/液体
导波雷达
Levelflex FMP51/52/54
• 同时测量清晰的界面和总物位
• 无湿标要求
• 测量不受介质密度影响
• 可用于450℃/400bar
• 探头可截短(杆式/缆式）
• 上层介质介电常数可达max.10
• 两种介质的介电常数差值必须＞10
• 允许乳化层max.50mm
• 用于界面测量时，上层介质厚度
小80mm
• 清晰界面
液体/液体
• 含乳化层界面
液体/液体
多参数测量仪
Levelflex FMP55
• 同时采集界面和物位值，可用
于乳化层
• 测量不受介质密度影响
• 无湿标要求
• 温度可达200℃ (392°F)
• PTFE涂层探头
• 上层介质介电常数值变化影响测量
精度
• 上层介质介电常数值 高可达10
• 两种介质的介电常数差值必须＞10
• 用于界面测量时，上层介质的厚度
不能小于80mm
• 含乳化层界面
液体/液体
电容
Liquicap FMI51/52
• 经过验证的测量仪表
• 无湿标要求
• 不受介质密度影响
• 可用于乳化层
• 小量程范围测量的理想之选
• 温度可达200℃，压力可达
100bar
• 两种介质的介电常数差值必须＞10
上层介质可以是非导电介质
• 探头上有非导电介质黏附时精度下
降
• 容器越小，上层介质介电常数变化
产生的影响越大
• 不能测量总物位
• 含乳化层界面
液体/液体
• 界面
液体/固体
• 多层界面测量
液体/固体
Radiometry
Gammapilot FMG60
• 非介入式和免维护测量方法
• 不受压力和温度影响
• 黏附仅有轻微影响
• 可用于乳化层
• 采用多源探测器进行多层界面
测量
• 介质密度变化对测量精度有影响
• 不能测量总物位（可使用另外的放
射源探测器）
• 要求湿标